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在镀膜领域，涂镀后的薄膜样品的厚度是影响薄膜性能的重要因素。因此，在评价膜样品的性能时，需要在不同厚度下测试膜样品的性能。在真空镀膜的情况下，这通常需要多次样品制备。然而，多次制备样品存在两个问题：首先，不同的生长样品具有不同的仪器条件，因此影响膜样品性能的因素不仅是厚度。其次，在真空涂层实验中需要再次对样品进行真空处理。获取非常耗时。增加生产和测试成本。
真空镀膜机被广泛使用，涉及各个行业，并受到每个人的广泛喜爱。那么它的工作原理是什么？
真空镀膜设备主要是指需要在较高真空度下进行的镀膜，包括多种类型，包括多弧离子真空镀膜设备，真空离子蒸发，光学镀膜机，磁控溅射，MBE分子束外延， PLD激光溅射有多种喷涂方法。真空镀膜的工作原理是薄膜在高温下在工件表面蒸发并结晶。由于空气将对蒸发的薄膜分子产生阻力，并引起碰撞，使晶体粗糙而晦暗，因此必须在高真空下使晶体细腻明亮。如果真空度不高，晶体将失去光泽，并且粘合力也非常差。早期的真空镀膜依赖于蒸发器的自然散射，加上工作效率低和光泽差。现在添加中频磁控溅射靶。磁控射击靶在电场的作用下加速了膜体蒸发分子对靶材料的轰击，溅射出大量靶原子，中性靶原子（或分子）沉积在膜上基材上的薄膜解决了过去无法通过自然蒸发处理的薄膜类型，例如镀钛和镀锆。
