真空镀膜的应用方法

2020-11-13 16:43:37

次

真空镀膜的应用简单理解为在真空环境中通过蒸发、溅射和随后的冷凝在金属、玻璃、陶瓷、半导体和塑料部件上涂覆金属膜或涂层。与传统涂布方法相比，真空涂布是一种干式涂布，其主要方法包括以下几种:

真空蒸发。

其原理是在真空条件下，蒸发材料被蒸发器加热蒸发或升华，蒸发的离子流直接导向衬底，在衬底上沉积固体薄膜。

溅射镀膜。

溅射镀膜是在真空条件下将2000伏的高压接到阴极上，激发辉光放电。带正电荷的氩离子撞击阴极喷出原子，溅射的原子通过惰性气氛沉积在衬底上形成薄膜层。

真空镀膜的应用

离子镀。

也就是干式螺杆真空泵厂家已经推出的真空离子镀。它是在上述两种真空镀膜技术的基础上发展起来的，因此兼具两种技术特点。在真空条件下，工作气体或蒸发物质(薄膜材料)通过气体放电被部分电离，蒸发物质或其反应物在离子轰击下沉积在衬底表面。在成膜过程中，基材总是受到高能粒子的轰击，非常干净。

真空卷绕涂层。

真空卷绕镀膜是通过物理气相沉积在柔性基板上的连续镀膜技术，以实现柔性基板的一些功能和装饰性能。

以上四种类型属于物理气相沉积技术的应用(PVD)。

然后是化学气相沉积(CVD)。薄膜是通过化学反应制成的。其原理是在一定温度下，将含有成膜材料的反应气体引入基底并被吸附，在基底上产生化学反应形成核，然后反应产物从基底表面分离并不断扩散形成膜。

离子束沉积镀膜结合了离子注入和气相沉积镀膜技术，是一种利用电离粒子作为气相沉积材料，在相对较低的衬底温度下形成特性良好的薄膜的技术。