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目前卷对卷真空镀膜生产线(机)多为单室分室和多室结构，虽然这种生产设备结构简单，价格低廉，生产效率高，生产能力亦可，但仍存在以下缺点：当镀膜设备每一次完成一个镀膜工序，必须将整个真空设备真空室放空，破坏真空，将镀制好的底材取出，然后装入新的底材卷，使其重新真空化，使其能耗增加，影响生产效率，成本增加。
薄膜的制备是在真空条件下进行的，包括晶态下的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物薄膜，虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但真空镀膜通常是通过物理方法沉积薄膜。有三种形式的真空镀膜，即蒸发式、溅射式和离子式。真空膜的多功能性也决定了它的应用场合十分丰富。总的来说，真空镀膜的主要作用是使镀膜表面具有很高的金属光泽和镜面效果，使镀膜材料具有卓越的阻隔性，提供优良的电磁屏蔽和导电效果。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是基于真空技术，采用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的新工艺.简而言之，将金属、合金或化合物在真空中蒸发或溅射，使之凝固并沉积在涂覆物(称为基体，基片)上的方法，即真空镀膜。
