镀膜玻璃的生产方法有很多，包括真空磁控溅射、真空蒸发、化学气相沉积和溶胶-凝胶法。磁控溅射镀膜玻璃可以利用磁控溅射技术设计制造多层复杂薄膜系统，可以在白色玻璃基板上镀膜各种颜色。该膜具有良好的耐腐蚀性和耐磨性，是目前应用最广泛的产品之一。

涂覆靶是溅射源，在适当的工艺条件下，通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的涂覆系统在基底上形成各种功能膜。简单来说，目标就是高速带电能量粒子轰击的目标，用于高能激光武器。当不同功率密度、不同输出波形、不同波长的不同激光束与不同目标相互作用时，会产生不同的杀伤和破坏效果。例如，蒸发磁控溅射镀膜就是加热蒸发镀膜...铝膜等。通过更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛和镍靶材等。)，不同的膜系(如超硬、耐磨、耐腐蚀合金膜等。)即可获得。

磁控溅射沉积的主要优点是:(1)粒子能量高，膜结构致密稳定，无电子束热蒸发镀膜引起的波长漂移；(2)因为可以设置为磁控溅射，所以可以通过真空室的圆柱形表面积来测量涂覆面积。在较低的沉积速率下，手机装饰涂层领域的生产效率高于蒸发涂层；③与蒸发膜相比，溅射膜具有稳定的折射率，因此膜的光学厚度可以通过镀膜时间来控制。(4)无需加热即可得到致密的薄膜，适用于耐温不超过100℃的PET薄膜等材料。⑤一旦工艺调整到高重复性；