离线LOWE玻璃是指浮法玻璃离开生产线后的涂层生产。这种镀膜方法通常采用真空磁控溅射技术，使靶材的颗粒在一定的真空条件和气体气氛下高速轰击银电极上的银，在玻璃上产生一定厚度的银膜，与其他靶膜一起形成特殊的薄膜。

适用范围。

主要用于在大型平板玻璃上镀制金属单层膜、合金膜或金属复合膜。镀膜玻璃具有遮光、保温、

节能装修。

结构特征。

1.采用新型平面和柱状磁控溅射打靶技术，提高镀膜效果和效率。

2.配有高精度磁控电源，气体流量和速度控制，自动化程度高，操作简单，性能稳定。

3.该膜均匀性好，附着力强，硬度高，耐腐蚀性好，可镀各种颜色的膜。

4.真空室有传统的垂直设计和高效的水平设计，以满足不同层次客户的需求。

相沉积法和溶胶-凝胶法。磁控溅射镀膜玻璃可以利用磁控溅射技术设计制造多层复杂薄膜系统，可以在白色玻璃基板上镀制各种颜色。该膜具有良好的耐腐蚀性和耐磨性，是目前生产和使用较多的产品之一。与磁控溅射镀膜玻璃相比，真空蒸发镀膜玻璃的品种和质量都有一定差距，已经逐渐被真空溅射取代。化学气相沉积(CVD)是指将反应气体引入浮法玻璃生产线，在热玻璃表面分解，均匀沉积在玻璃表面，形成镀膜玻璃。