随着现代制造业的迅速发展，在我们周围的很多产品都已经应用于镀膜技术。那今天广东振华就和大家谈谈一种较为常见的镀膜工艺——真空磁控溅射膜。例如，如车窗玻璃、家用玻璃等，都采用真空磁控溅射镀膜技术进行镀膜，以满足一般玻璃所不具备的冷却、减低辐射的效果。

磁控溅射法是一种涉及气体等离子体的沉积技术，产生的等离子气被限制在含有待沉积物质的空间内，而溅射靶的表面被等离子体中的高能离子所侵蚀，这些等离子体释放的原子穿过真空环境，然后沉积在基片上，形成薄膜。

与蒸发镀膜相比，真空磁控溅射镀膜膜更为均匀，因此真空蒸发镀膜所镀出的膜厚度在中间通常会稍薄一些。

所以，由于我们不能控制真空蒸发镀膜的膜层厚度，在真空磁控溅射镀膜过程中，可以通过控制镀膜时间的长短来控制镀膜厚度，所以真空蒸镀不适合企业大规模生产。相反地，溅射镀膜在这方面就具有更大的优势。

所以相对于蒸发镀膜，真空磁控溅射镀膜具有膜厚均匀、控制灵活等优点，并具有以下特点：

磁控溅射镀的膜层纯度高，因而致密；

膜层材质柔软，膜层可以由大部分材料组成，包括普通合金，化合物等；

溅射膜的沉积率较低，且整体装置较为复杂；

负压溅射膜与作用基体之间有良好的粘结性能。