真空镀膜机薄膜是一种材料形式，它使用的薄膜材料范围很广，可以是简单的元素或化合物，也可以是无机材料或有机材料。薄膜像块状材料一样，可以是单晶、多晶或非晶的。近年来，功能材料薄膜和复合膜也取得了很大的进展。涂层技术和薄膜产品广泛应用于工业领域，尤其是电子材料和元器件行业。

真空镀膜设备厂家镀膜方法可分为蒸汽发生法、氧化法、离子注入法、扩散法、电镀法、镀膜法、液相生长法等。蒸汽发生法可分为物理气相沉积法、化学气相沉积法和放电聚合法。

真空蒸发、溅射镀膜和离子镀，俗称物理气相沉积，真空镀膜故障是基本的薄膜制备技术。它们都需要在沉积薄膜的空间中有一定程度的真空。因此，真空技术是薄膜制造技术的基础，获得并维持所需的真空环境是镀膜的必要条件。

真空系统有很多种。在实际工作中，一定要根据自己的轻重缓急来选择。典型的真空系统包括:获得真空的设备(真空泵)、待抽真空的容器(真空室)、真空测量仪器(真空计)、必要的管道、阀门和其他辅助设备。

1.真空蒸发涂布法

真空蒸发镀膜法是在真空室中的蒸发容器中加热待形成薄膜的原料，使原料的原子或分子蒸发并从表面逸出形成蒸汽流，蒸汽流入射到固体(称为基底或衬底)的表面并冷凝形成固体薄膜的方法。真空蒸发镀膜可分为以下几种:

1.1电阻蒸发源蒸发法

用钽、钼、钨等高熔点金属制作形状合适的蒸发源，将待蒸发的材料装入蒸发源，让气流通过，直接加热蒸发待蒸发的材料，或将待蒸发的材料放入氧化铝、氧化铍等坩埚中间接加热蒸发，称为电阻加热蒸发法。

采用电阻加热器加热蒸发的镀膜机结构简单、成本低、使用可靠，可用于低熔点材料的蒸发镀膜，特别是对镀膜质量要求不高的大批量生产。

电阻加热的缺点是加热能达到的温度有限，加热器寿命短。近年来，为了延长加热器的使用寿命，国内外都采用使用寿命长的氮化硼导电陶瓷材料作为加热器。据日本zhuanli报道，坩埚可用20% ~ 30%的氮化硼和能与之熔化的耐火材料制成，表面涂有62% ~ 82%的锆，其余为锆硅合金材料。

1.2电子束蒸发源蒸发法

将蒸发材料放入水冷钢坩埚中，用电子束直接加热，然后在基体表面凝结成膜，是真空蒸发镀膜技术中一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点，特别适用于制作高熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。

依靠电子束轰击蒸发的真空蒸发技术，根据电子束蒸发源的不同形式，可分为环枪、直枪、E枪和空心阴极电子枪。