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真空镀膜是一种用物理方法生产薄膜材料的技术。真空室中材料的原子与热源隔离，并撞击待镀物体的表面。这项技术*首先用于生产光学透镜，如海洋望远镜透镜。后来扩展到其他功能薄膜，如记录镀铝、装饰涂层、材料表面改性等。比如表壳镀仿金，然后机床镀膜改变加工硬度。真空镀膜主要是利用辉光放电将氩(Ar)离子打到靶面上。
原子被喷射并沉积在衬底的表面上以形成薄膜。溅射薄膜的性能和均匀性优于蒸发薄膜，但镀膜速度比蒸发薄膜慢得多。几乎所有的新型溅射设备都是利用强大的磁铁使电子螺旋加速靶周围的氩电离，增加了靶与氩离子碰撞的可能性，提高了溅射速率。一般来说，大多数金属涂层使用DC溅射，而非导电陶瓷磁性材料使用射频交流溅射。基本原理是利用真空辉光放电将氩(氩)离子打在靶面上。随着材料的构建，等离子体中的阳离子将向阴极表面加速。这种撞击会导致靶飞出并沉积在基底上形成薄膜。
一般来说，溅射镀膜有几个特点:金属、合金或绝缘体可以制成薄膜材料。在适当的设置条件下，相同成分的薄膜可以由多个复杂目标制成。通过在放电气氛中添加氧气或其他活性气体，可以产生目标材料和气体分子的混合物或化合物。可以控制靶输入电流和溅射时间，并且可以容易地获得高精度的膜厚。与其他工艺相比，有利于生产大面积均匀薄膜。溅射粒子不受重力影响，靶和衬底的位置可以自由排列。基板与薄膜之间的粘合强度是普通气相沉积薄膜的10倍以上，并且由于溅射粒子能量高，表面会继续在成膜表面扩散，得到坚硬致密的表面膜。同时，这种高能量使衬底具有较低的温度。晶体膜可以在一定温度下获得。薄膜的初始成核密度非常高，可以产生10纳米以下的非常薄的连续薄膜。长目标寿命，长时间连续自动化生产。通过机器的特殊设计，目标可以制成各种形状，以实现更好的控制和高效生产。
