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(1)薄膜和基材选择广泛，薄膜厚度可度可以控制，以制造具有各种功能的功能性薄膜。
(2)在真空条件下制作薄膜，环境干净，薄膜不易污染，可获得致密性好、纯度高、涂层均匀的薄膜。
(3)膜与基体结合强度好，膜牢固。
(4)干式既不产生废液，也不污染环境。
真空涂层技术主要有真空蒸发涂层、真空溅射涂层、真空离子涂层、真空束流沉积、化学气相沉积等方法。除化学气相沉积法外，其他方法具有以下共同特点:
(1)各种涂层技术需要特定的真空环境，以确保制膜材料在加热蒸发或溅射过程中形成蒸汽分子的运动，避免大气中大量气体分子的碰撞、阻挡和干扰，消除大气中杂质的不利影响。
(2)各种涂层技术都需要有蒸发源或靶子，才能将蒸发膜的材料转化为气体。随着源或靶的不断改进，制膜材料的选择范围大大扩大，无论是金属、金属合金、金属间化合物、陶瓷还是有机物，都可以蒸镀各种金属膜和介质膜，也可以同时蒸镀不同材料，得到多层膜。
(3)蒸发或溅射的制膜材料可以在与待镀工件生成薄膜的过程中准确测量和控制薄膜厚度，从而保证薄膜厚度的均匀性。
(4)每种薄膜都可以通过微调阀精 确控制涂层室内残留气体的成分和质量分数，从而防止蒸镀材料的氧化，最 大限度地降低氧气质量分数，并充入惰性气体，这是湿式涂层无法实现的。
(5)由于镀膜设备的不断改进，镀膜过程可以连续进行，从而大大提高产品产量，在生产过程中不污染环境。
(6)由于在真空条件下制作薄膜，薄膜纯度高，密实性好，表面光亮，无需再加工，薄膜的力学性能和化学性能优于电镀膜和化学膜。
