1、磁控溅射的优势：

（1）实际操作易控。表层的镀膜全过程，只需维持工作中气体压强、额定功率等磁控溅射标准比较平稳，就能得到相对稳定的沉淀速度。

（2）堆积速度高。在堆积绝大多数的合金塑料薄膜，尤其是堆积高溶点的金属材料和金属氧化物塑料薄膜时，如磁控溅射钨、铝塑料薄膜和反应溅射TiO2、ZrO2塑料薄膜，具备很高的堆积率。

（3）基钢板超低温性。相对性二极磁控溅射或是热挥发，磁控溅射对基钢板加温少了，这一点对完成纺织物的上磁控溅射非常有益。

（4）膜的坚固性好。磁控溅射塑料薄膜与基钢板拥有非常好的粘合力，冲击韧性也获得了改进。

（5）涂膜高密度、匀称。磁控溅射的塑料薄膜集聚相对密度普遍提高了。从显微照片看，磁控溅射的溥膜表层外部经济外貌较为精美细腻，并且十分匀称。

（6）磁控溅射的塑料薄膜均具备良好的特性。如磁控溅射的陶瓷膜一般 能获取较好的光电特性、电力学特性及一些独特特性。

（7）便于机构批量生产。磁控源能够按照需要开展扩张，因而大规模表层的镀膜是很容易完成的。再再加上磁控溅射可连续性工作中，表层的镀膜全过程非常容易自动控制系统，因而工业生产上流水线生产彻底变成 很有可能。

（8）加工工艺环境保护。传统式的湿式电镀工艺会形成废水、废料、有机废气，对自然环境产生明显的环境污染。不发生空气污染、生产制造高效率的磁控溅射表层的镀膜规律可不错处理这一难点。

2、磁控溅射运用：

磁控溅射现阶段是一种运用十分的塑料薄膜堆积技术性,磁控溅射技术性上的持续进步和对新作用塑料膜的探究科学研究,使磁控溅射运用拓宽到很多制造和研究行业。

（1）在微电子技术行业做为一种非快热式表层的镀膜技术性,关键使用在有机化学液相堆积(CVD)或金属材料分析化学液相堆积(MOCVD)生长发育艰难及不适合的原材料塑料薄膜堆积,并且还可以得到大规模十分匀称的塑料薄膜。包含欧姆接触的Al、Cu、Au、W、Ti等金属电极塑料薄膜及可用以栅电缆护套或蔓延能隙层的TiN、Ta2O5、TiO、Al2O3、ZrO2、AlN等物质塑料薄膜堆积。

（2）磁控溅射技术性在光学薄膜(如增透膜)、减反射膜夹层玻璃和全透明导电性夹层玻璃等领域也获得运用。在全透明导电性夹层玻璃在夹层玻璃硅片或软性衬底上,磁控溅射制取SiO2塑料薄膜和夹杂ZnO或InSn金属氧化物(ITO)塑料薄膜，使可见光范围内均值光透过率在90%之上。

（3）在当代机械加工制造工业生产中,运用磁控溅射技术性制做表层作用膜、超

硬膜,自润滑轴承塑料薄膜,能合理的增强表层强度、复合型延展性、抗磨损性和抗高溫有机化学可靠性能,进而大幅地提升镀层商品的使用期限。

磁控溅射除以上已被大量的使用的行业,仍在高温超导体塑料薄膜、铁电体塑料薄膜、巨磁电式塑料薄膜、塑料薄膜光学材料、太阳能电池板、记忆合金塑料薄膜科学研究层面起到主要功效。

三、汇总

磁控溅射技术性因为其的优势变成 工业生产表层的镀膜关键技术性之一。在未来的分析中，新技术应用向工业生产方面的营销推广、磁控溅射技术性与电子计算机的融合已变成一个研究内容，怎样利用软件来操纵精准表层的镀膜全过程，利用软件来仿真模拟表层的镀膜时的电磁场、温度梯度、及其气旋遍布，终将能给磁控溅射表层的镀膜全过程给予靠谱的信息适用，也是经济发展合理的方式 。