磁控真空镀膜机镀制塑料薄膜薄厚的均衡性是涂膜特性的特别关键的指标值，因而科学研究磁控真空镀膜机镀制膜层匀称性是十分需要的，下边融成真空泵我为大伙儿介绍一下:

简易的说磁控便是在正交和的磁场中，合闭的电磁场束缚电子紧紧围绕相对孔径做螺线健身运动，在运作全过程中不断地碰撞工作中汽体氩气瓶水解出很多的氩正离子，氩离子在静电场的作用下加快负电子靶材，磁控溅射出呈中性化的靶分子（或分子结构）堆积在硅片上涂膜。因此要完成均衡的表层的镀膜，就必须匀称的磁控溅射出靶分子（或分子结构），这就规定负电子靶材的氩正离子是均匀分布的且是匀称的负电子的。因为氩正离子在静电场的作用下加快负电子靶材，因此匀称负电子非常大水平上依靠静电场的匀称。而氩正离子来自被合闭的电磁场拘束的电子器件在活动中不断地碰撞的工作汽体氩气瓶，这就规定电磁场匀称和工作中汽体氩气瓶匀称。可是真实的磁控设备中，这种原因全是不匀称的，这就必须科学研究她们不均匀分布对涂膜匀称性的危害。

1、电磁场不匀称的危害

因为真实的磁控设备中静电场和电磁场并不是随处匀称的，也不是随处正交和的，全是空间的函数公式。写下的三维运动方程关系式是不能解的，最少沒有初等函数的解。因此电磁场的不均衡性对正离子的危害，也即对涂膜不均衡性的直接影响是无法测算的，建议的方式 便是相互配合试验深入分析。图1是用高频双生靶软性倒丝机磁控表层的镀膜设备试验得到的靶电磁场匀称性和涂膜薄厚匀称性的对应关系。

2、汽体不均衡性的危害

一般来说汽体不匀称可以由二种状况造成，一种是供气不匀称，另一种便是抽真空不匀称。正常的抽真空状况指的是真空泵窒内的双生靶两边对称性抽真空，可觉得是匀称抽真空；而前分子泵关和后分子泵关则是一端抽气，归属于不匀称抽真空。因为全是匀称供气不匀称抽真空，真空泵窒内的汽体也不匀称了。很显而易见前分子泵关只开后分子泵时，标准气压过去到后慢慢减少，而后分子泵关只开前分子泵时，标准气压从后面到前慢慢减少。试验获得的膜厚考虑到电磁场的危害后也正与标准气压转变相符合。

3、靶基距、标准气压的危害

磁控真空镀膜机靶基距也是危害磁控塑料薄膜薄厚匀称性的主要技术主要参数，塑料薄膜薄厚匀称性在一定区域内伴随着靶基距的扩大有增强的发展趋势，磁控溅射工作中标准气压也是危害塑料薄膜薄厚匀称性关键要素。可是，这类匀称是在小区域内的，由于扩大靶基距造成的均衡性是提升靶上的一点相匹配的板材上的总面积造成的，而提升工作中标准气压是因为提升颗粒透射造成的，显而易见，这种要素只有在小总面积范畴内起功效。