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磁控溅射镀膜的方法
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磁控溅射镀膜的方法
2020-12-03
磁控溅射镀膜的方法磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射
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